INSPECTION & TEST

晶圓檢測設備

Wafer Inspection & Test

貫穿全線的量測、缺陷檢測與電性測試。

檢測機台與晶圓載入端特寫,螢幕上顯示晶圓圖,冷藍色調

EQUIPMENT SCOPE

設備範圍

  • ADVANTEST 半導體測試設備
  • LASERTEC 檢測與量測設備

以日系主力品牌為主,涵蓋電性測試與光學/雷射檢測設備。

晶圓圖缺陷分布視覺化貼近螢幕拍攝,色點群聚形成特徵圖樣

SERVICES

服務內容

  • 設備採購與機種評估選型
  • 設備狀態查驗與驗機協助
  • 拆機、包裝與跨境運送
  • 進場安裝、校正與調試
  • 光學系統與測試介面維護保養
  • 檢測與測試流程導入
  • 資料判讀與操作培訓

AI INTEGRATION

AI 整合

以下為倍特爾對標導入的第三方前沿架構。

G2LGAN+CNN (2025)

兩階段 GAN 增強配合 MobileNetV2,處理類別不平衡的晶圓圖缺陷分類。

對標指標:Accuracy 98.39%、F1 93.01%

對標/導入之前沿架構

CNN-ESN (2026)

ResNet34 結合回聲狀態網路,提升含雜訊晶圓圖的辨識穩健性。

對標指標:乾淨 94.74%、雜訊 87.30%

對標/導入之前沿架構

SEMVision H20 (2025)

以產線持續訓練的深度學習影像分類加速 e-beam 缺陷複審。

對標指標:3× 複審速度、已導入 2nm/GAA 客戶

對標/導入之前沿架構

GPU 即時適應性測試

以 GPU 加速機器學習於測試流程即時調整,縮短測試時間。

對標指標:Blackwell 量產:測試時間 -25%

對標/導入之前沿架構

KGD/離群偵測(GPR、共形預測)

以空間建模與共形預測提升已知良品判定與離群偵測。

對標指標:優於 DPAT;Vmin 約 90% 覆蓋保證

對標/導入之前沿架構

InF-ATPG (2025)

以 FFR 劃分結合 QGNN 與 DQN 優化測試圖樣生成。

對標指標:回溯 -55.06%、UFP 0.50%

對標/導入之前沿架構

AI 視覺化:晶圓圖缺陷分類結果與信心度長條圖並置

USE CASES

適用場景

  • 需要強化線上缺陷偵測與回饋的產線
  • 測試時間與測試成本壓力大的封測廠
  • 檢測設備移機與光學重新校正
  • 研究機構建立缺陷分析能力

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