DeepOHeat-v1 （2025）
以 DeepONet＋KAN 建立熱場代理模型，快速推算腔體與晶圓熱分布。
對標／導入之前沿架構
CVD
化學氣相沉積設備
Chemical Vapor Deposition
控制膜厚均勻度與階梯覆蓋的薄膜沉積段。
EQUIPMENT SCOPE
設備範圍
- KOKUSAI ELECTRIC (KE) 化學氣相沉積設備
- MATSUSHITA 化學氣相沉積設備
以日系主力品牌為主，涵蓋批次式與單片式薄膜沉積設備。
SERVICES
服務內容
- 設備採購與機種評估選型
- 設備狀態查驗與驗機協助
- 拆機、包裝與跨境運送
- 進場安裝、氣體管路接續與調試
- 維護保養與耗材備品規劃
- 薄膜製程技術導入
- 操作與維護人員培訓
AI INTEGRATION
AI 整合
以下為倍特爾對標導入的第三方前沿架構。
ThermEDGe / IREDGe
以 Encoder-Decoder CNN 推算溫度輪廓與電熱耦合影響。
對標／導入之前沿架構
腔體數字孿生
建立沉積腔體虛擬對照體，模擬氣流、溫度與膜厚均勻度。
對標／導入之前沿架構
USE CASES
適用場景
- 需要提升膜厚均勻度與批次一致性的產線
- 新增薄膜製程能力的擴產專案
- 爐管設備移機與重新驗證
- 研究機構建立薄膜沉積實驗能力