CVD

化学气相沉积设备

Chemical Vapor Deposition

控制膜厚均匀性与台阶覆盖的薄膜沉积段。

立式炉管设备外观,管路与加热段层次分明,冷白光、极简构图

EQUIPMENT SCOPE

设备范围

  • KOKUSAI ELECTRIC (KE) 化学气相沉积设备
  • MATSUSHITA 化学气相沉积设备

以日系主力品牌为主,涵盖批式与单片式薄膜沉积设备。

晶舟载入炉管的瞬间特写,多片晶圆整齐排列,暖白背光

SERVICES

服务内容

  • 设备采购与机型评估选型
  • 设备状态查验与验机协助
  • 拆机、包装与跨境运输
  • 进场安装、气体管路接驳与调试
  • 维护保养与耗材备件规划
  • 薄膜工艺技术导入
  • 操作与维护人员培训

AI INTEGRATION

AI 整合

以下为倍特尔对标导入的第三方前沿架构。

DeepOHeat-v1 (2025)

以 DeepONet+KAN 建立热场代理模型,快速推算腔体与晶圆热分布。

对标指标:MAPE 0.035%、训练 -62×、内存 -31×

对标/导入的前沿架构

ThermEDGe / IREDGe

以 Encoder-Decoder CNN 推算温度轮廓与电热耦合影响。

对标指标:平均 IR 误差 0.053mV

对标/导入的前沿架构

腔体数字孪生

建立沉积腔体虚拟对照体,仿真气流、温度与膜厚均匀性。

对标指标:以虚拟验证缩短条件建立周期

对标/导入的前沿架构

AI 可视化:晶圆热场等高线与膜厚均匀性色阶图,深蓝底、光谱色阶

USE CASES

适用场景

  • 需要提升膜厚均匀性与批次一致性的产线
  • 新增薄膜工艺能力的扩产项目
  • 炉管设备移机与重新验证
  • 研究机构建立薄膜沉积实验能力

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