LithoDreamer 生成式光刻／ILT
以生成式与反演光刻方法生成掩模图形修正，提升转印保真度。
对标／导入的前沿架构
MASK / RETICLE
掩模版工艺设备
Mask / Reticle
图形质量的源头，决定后续所有转印结果。
EQUIPMENT SCOPE
设备范围
- NUFLARE 电子束直写设备
- JEOL 电子束与掩模版相关设备
以日系主力品牌为主，涵盖掩模版直写与相关工艺设备。
SERVICES
服务内容
- 设备采购与机型评估选型
- 设备状态查验与验机协助
- 拆机、包装与跨境运输
- 进场安装、防振环境确认与调试
- 电子光学系统与真空系统维护保养
- 掩模版工艺技术导入
- 操作与维护人员培训
AI INTEGRATION
AI 整合
以下为倍特尔对标导入的第三方前沿架构。
MaxViT／U-Net （2026）
以编码解码图像模型处理大尺度图形场，快速定位风险区。
对标／导入的前沿架构
可解释 GAT 版图热点（ASP-DAC'26）
以图注意力网络在版图阶段预测热点并反馈掩模修正。
对标／导入的前沿架构
电子束直写数字孪生
模拟写入剂量、邻近效应与写入时间，优化写入策略。
对标／导入的前沿架构
USE CASES
适用场景
- 掩模版厂建设或扩充直写产能
- 需要提升图形保真度与修正效率的项目
- 电子束设备移机与环境条件重建
- 研究机构建立电子束直写能力