蒙特卡罗掺杂剖面物理仿真
以离子输运物理模型推算掺杂浓度剖面与沟道效应。
对标／导入的前沿架构
ION IMPLANTATION
离子注入设备
Ion Implantation
决定掺杂浓度、深度与器件电学性能的关键工艺段。
EQUIPMENT SCOPE
设备范围
- ULVAC 离子注入设备
- NISSIN 离子注入设备
以日系主力品牌为主，涵盖不同能量区间的离子注入设备。
SERVICES
服务内容
- 设备采购与机型评估选型
- 设备状态查验与验机协助
- 拆机、包装与跨境运输
- 进场安装、束流校准与调试
- 离子源与真空系统维护保养
- 掺杂工艺条件导入
- 操作与维护人员培训
AI INTEGRATION
AI 整合
以下为倍特尔对标导入的第三方前沿架构。
BPINN-EM-Post （2025） 贝叶斯 PINN 思路
将物理残差与观测结合，量化工艺预测的不确定性区间。
对标／导入的前沿架构
GPR 空间建模（KGD／离群检测）
以高斯过程建模晶圆级参数分布，检测空间性离群。
对标／导入的前沿架构
USE CASES
适用场景
- 需要精准掺杂控制的先进器件工艺
- 功率器件与化合物半导体产线
- 注入机移机与束流重新校准
- 研究机构建立掺杂实验能力