LithoDreamer 生成式微影／ILT
生成與反演式修正光罩圖形，加速 OPC 迭代與圖形收斂。
對標／導入之前沿架構
LITHOGRAPHY
黃光段設備
Lithography
曝光與旋塗顯影，決定線寬、對準與圖形保真度。
EQUIPMENT SCOPE
設備範圍
- NIKON 全系列曝光機產品
- CANON 全系列曝光機產品，包含奈米壓印設備
- TEL 旋塗與顯影設備
- DNS 旋塗與顯影設備
以日系主力品牌為主，涵蓋曝光主機與塗佈顯影軌道的整線配置。
SERVICES
服務內容
- 設備採購與機種評估選型
- 設備狀態查驗與驗機協助
- 拆機、包裝與跨境運送
- 進場安裝、對準與調試
- 維護保養與備品規劃
- 微影製程技術導入
- 操作與維護人員培訓
AI INTEGRATION
AI 整合
以下為倍特爾對標導入的第三方前沿架構。
可解釋 GAT 佈局熱點 （ASP-DAC'26）
以 8 頭圖注意力網路預測佈局熱點並提供可解釋依據。
對標／導入之前沿架構
旋塗顯影軌道數字孿生
建立塗佈與顯影軌道的虛擬對照體，模擬條件變更與排程影響。
對標／導入之前沿架構
USE CASES
適用場景
- 新產線建置需要曝光與塗佈顯影整線導入
- 既有廠區擴產或機台移機重建
- 研究機構建立微影實驗能力
- 二手設備買方需要狀態查驗與復機支援