LithoDreamer 生成式微影／ILT
以生成與反演式方法產生掩模圖形修正，提升轉印保真度。
對標／導入之前沿架構
MASK / RETICLE
掩模版製程設備
Mask / Reticle
圖形品質的源頭，決定後段所有轉印結果。
EQUIPMENT SCOPE
設備範圍
- NUFLARE 電子束寫入設備
- JEOL 電子束與掩模版相關設備
以日系主力品牌為主，涵蓋掩模版寫入與相關製程設備。
SERVICES
服務內容
- 設備採購與機種評估選型
- 設備狀態查驗與驗機協助
- 拆機、包裝與跨境運送
- 進場安裝、防震環境確認與調試
- 電子光學系統與真空系統維護保養
- 掩模版製程技術導入
- 操作與維護人員培訓
AI INTEGRATION
AI 整合
以下為倍特爾對標導入的第三方前沿架構。
MaxViT／U-Net （2026）
以編碼解碼影像模型處理大尺度圖形場，快速定位風險區。
對標／導入之前沿架構
可解釋 GAT 佈局熱點（ASP-DAC'26）
以圖注意力網路於佈局階段預測熱點並回饋光罩修正。
對標／導入之前沿架構
電子束寫入數字孿生
模擬寫入劑量、鄰近效應與寫入時間，優化寫入策略。
對標／導入之前沿架構
USE CASES
適用場景
- 掩模版廠建置或擴充寫入產能
- 需要提升圖形保真度與修正效率的專案
- 電子束設備移機與環境條件重建
- 研究機構建立電子束寫入能力