LITHOGRAPHY

リソグラフィ工程の装置

Lithography

露光と塗布・現像が、線幅・アライメント・パターン忠実度を決めます。

リソグラフィ区通路のパノラマ。黄色フィルター照明の下に並ぶ露光装置、クリーンで左右対称の構図

EQUIPMENT SCOPE

取扱装置の範囲

  • NIKON の露光装置全シリーズ
  • CANON の露光装置全シリーズ(ナノインプリント装置を含む)
  • TEL のコータ/デベロッパ
  • DNS のコータ/デベロッパ

日系主力ブランドを中心に、露光装置本体から塗布・現像トラックまでのライン構成をカバーします。

コータ/デベロッパ内部のクローズアップ:スピンチャンバー内のウェーハと、レジスト膜面が反射する色帯

SERVICES

サービス内容

  • 装置の調達と機種選定の評価
  • 装置状態の確認と受入検査の支援
  • 解体・梱包・越境輸送
  • 搬入据付、アライメントと立ち上げ調整
  • 保守点検と予備品の計画
  • リソグラフィのプロセス技術導入
  • 操作・保守要員の人材育成

AI INTEGRATION

AI 統合

以下は BETTER がベンチマークする第三者の最先端アーキテクチャです。

LithoDreamer/ILT

フォトマスクパターンを生成型・逆解析型で補正し、OPC の反復とパターン収束を高速化します。

ベンチマーク指標:生成型手法によりリソグラフィ補正の反復を短縮

ベンチマーク/導入対象の最先端アーキテクチャ

説明可能な GAT レイアウトホットスポット (ASP-DAC'26)

8 ヘッドのグラフアテンションネットワークでレイアウトのホットスポットを予測し、説明可能な根拠を提示します。

ベンチマーク指標:メモリを画像ベース手法比 5–12× 削減

ベンチマーク/導入対象の最先端アーキテクチャ

トラック装置のデジタルツイン

塗布・現像トラックの仮想モデルを構築し、条件変更とスケジュールの影響をシミュレーションします。

ベンチマーク指標:仮想検証により実機テストの一部を代替

ベンチマーク/導入対象の最先端アーキテクチャ

AI ビジュアライゼーション:フォトマスクパターンとホットスポット予測の重ね合わせ図。ノードをグラフアテンションの線で結び、濃紺の背景

USE CASES

適用シーン

  • 新規生産ラインで露光と塗布・現像を一括導入する場合
  • 既存工場の増産、または装置移設による再構築
  • 研究機関がリソグラフィの実験能力を立ち上げる場合
  • 中古装置の購入にあたり状態確認と再立ち上げ支援が必要な場合

GET IN TOUCH

生産ラインのご要望をお聞かせください

装置選定から据付、AI 導入まで、ワンストップでご対応します。