LithoDreamer／ILT
生成型および逆リソグラフィの手法でマスクパターン補正を生成し、転写忠実度を高めます。
ベンチマーク／導入対象の最先端アーキテクチャ
MASK / RETICLE
フォトマスク工程の装置
Mask / Reticle
パターン品質の起点であり、後工程の転写結果を左右します。
EQUIPMENT SCOPE
取扱装置の範囲
- NUFLARE の電子ビーム描画装置
- JEOL の電子ビーム・フォトマスク関連装置
日系主力ブランドを中心に、フォトマスク描画と関連プロセスの装置をカバーします。
SERVICES
サービス内容
- 装置の調達と機種選定の評価
- 装置状態の確認と受入検査の支援
- 解体・梱包・越境輸送
- 搬入据付、防振環境の確認と立ち上げ調整
- 電子光学系と真空システムの保守点検
- フォトマスクのプロセス技術導入
- 操作・保守要員の人材育成
AI INTEGRATION
AI 統合
以下は BETTER がベンチマークする第三者の最先端アーキテクチャです。
MaxViT／U-Net （2026）
エンコーダ・デコーダ型の画像モデルで大規模なパターン領域を扱い、リスク領域を高速に特定します。
ベンチマーク／導入対象の最先端アーキテクチャ
説明可能な GAT レイアウトホットスポット（ASP-DAC'26）
グラフアテンションネットワークにより、レイアウト段階でホットスポットを予測しマスク補正へ反映します。
ベンチマーク／導入対象の最先端アーキテクチャ
電子ビーム描画のデジタルツイン
描画ドーズ、近接効果、描画時間をシミュレートし、描画戦略を最適化します。
ベンチマーク／導入対象の最先端アーキテクチャ
USE CASES
適用シーン
- フォトマスク工場の新設や描画能力の増強
- パターン忠実度と補正効率の向上が必要なプロジェクト
- 電子ビーム装置の移設と環境条件の再構築
- 研究機関が電子ビーム描画の実験能力を立ち上げる場合
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装置選定から据付、AI 導入まで、ワンストップでご対応します。