LithoDreamer 生成式光刻／ILT
生成并反演修正掩模版图形，加速 OPC 迭代与图形收敛。
对标／导入的前沿架构
LITHOGRAPHY
光刻（黄光）设备
Lithography
曝光与涂胶显影，决定线宽、对准与图形保真度。
EQUIPMENT SCOPE
设备范围
- NIKON 全系列光刻机产品
- CANON 全系列光刻机产品，包含纳米压印设备
- TEL 涂胶与显影设备
- DNS 涂胶与显影设备
以日系主力品牌为主，涵盖光刻主机与涂胶显影机（Track）的整线配置。
SERVICES
服务内容
- 设备采购与机型评估选型
- 设备状态查验与验机协助
- 拆机、包装与跨境运输
- 进场安装、对准与调试
- 维护保养与备件规划
- 光刻工艺技术导入
- 操作与维护人员培训
AI INTEGRATION
AI 整合
以下为倍特尔对标导入的第三方前沿架构。
可解释 GAT 版图热点 （ASP-DAC'26）
以 8 头图注意力网络预测版图热点并提供可解释依据。
对标／导入的前沿架构
涂胶显影机数字孪生
建立涂胶与显影线的虚拟对照体，仿真条件变更与排程影响。
对标／导入的前沿架构
USE CASES
适用场景
- 新产线建设需要光刻与涂胶显影整线导入
- 现有厂区扩产或设备移机重建
- 研究机构建立光刻实验能力
- 二手设备买方需要状态查验与复机支持