DeepOHeat-v1 （2025）
DeepONet＋KAN で熱場のサロゲートモデルを構築し、チャンバーとウェーハの熱分布を高速に算出します。
ベンチマーク／導入対象の最先端アーキテクチャ
CVD
CVD（化学気相成長）装置
Chemical Vapor Deposition
膜厚の均一性とステップカバレッジを制御する薄膜成膜工程です。
EQUIPMENT SCOPE
取扱装置の範囲
- KOKUSAI ELECTRIC (KE) の CVD 装置
- MATSUSHITA の CVD 装置
日系主力ブランドを中心に、バッチ式と枚葉式の薄膜成膜装置をカバーします。
SERVICES
サービス内容
- 装置の調達と機種選定の評価
- 装置状態の確認と受入検査の支援
- 解体・梱包・越境輸送
- 搬入据付、ガス配管の接続と立ち上げ調整
- 保守点検と消耗品・予備品の計画
- 薄膜プロセスの技術導入
- 操作・保守要員の人材育成
AI INTEGRATION
AI 統合
以下は BETTER がベンチマークする第三者の最先端アーキテクチャです。
ThermEDGe / IREDGe
Encoder-Decoder CNN で温度プロファイルと電熱連成の影響を算出します。
ベンチマーク／導入対象の最先端アーキテクチャ
チャンバーのデジタルツイン
成膜チャンバーの仮想モデルを構築し、ガス流、温度、膜厚の均一性をシミュレーションします。
ベンチマーク／導入対象の最先端アーキテクチャ
USE CASES
適用シーン
- 膜厚の均一性とバッチ間再現性の向上が必要な生産ライン
- 薄膜プロセス能力を新設する増産プロジェクト
- 炉装置の移設と再検証
- 研究機関が薄膜成膜の実験能力を立ち上げる場合
GET IN TOUCH
生産ラインのご要望をお聞かせください
装置選定から据付、AI 導入まで、ワンストップでご対応します。